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通知公告

第三届国际先进光刻技术研讨会报名开启

稿件来源: 发布时间:2019-08-28

  近年来,中国集成电路产业蓬勃发展,基于这样的形势,国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Pattern Solution, IWAPS)应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员提供了一个技术交流平台,参会者可以就集成电路制造工艺、设备、材料、测量、计算光刻和设计优化等多个主题分享成果,探讨解决方案,并研讨即将面临的技术挑战。 

  作为国内唯一的高端光刻技术研讨会,其发言者均为特邀自光刻及其相关领域的国内外资深专家,代表了其所在领域的国际先进水平。报告内容涉及广泛,涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。该研讨会旨在为与会者提供一个深入讨论的互动平台,也为想要了解更多国内外半导体届动态的研究者和工程师提供跟多机会。 

  本届IWAPS会议将于20191017-18日在南京金陵江滨酒店举办,由集成电路产业技术创新联盟和中国光学学会主办,皇冠体育直播和南京浦口高新技术产业开发区承办,IEEE南京分会提供技术支持。 

  可用微信扫描二维码进行报名,亦可登录官网进行报名。 

 

 

 

  会议官网: 

  会议官方微信公众号:光刻人的世界 

组委会 

 

 

 

演讲嘉宾  

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赞助单位 

 

合作媒体 

 

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